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光学设计学习路径

记录我在光学设计领域的学习资料、感悟等

目录

Zemax

1. Zemax光学系统设计与优化流程

  1. 设计与优化全流程:Zemax光学系统设计与优化步骤
  2. 初始结构设计:Zemax 光学镜头设计 镜头初始结构、专利收集方法汇总3. Zemax各种像差图像意义分析与优化:一文看懂ZEMAX像差、像差图、基本像差的控制和优化
  3. MTF优化:提高镜头MTF的方法

2. Zemax进行杂散光分析

  1. 全流程视频参考: zemax杂散光分析-光学设计
  2. 全流程文本参考: ZEMAX | 杂散光分析——第一篇 ZEMAX | 杂散光分析——第二篇 ZEMAX | 杂散光分析——第三篇

注: 途中遇到没有自动生成颜色探测器的问题,后续手动添加解决; 注意查看Zemax自带的用户手册,如滤字符串等相关内容来筛选光线。

3. Zemax公差分析 2025-08-04

  1. 全流程视频参考: ZEMAX公差分析 视频先适当优化了一下,优化函数设置为波前,类型设置PTV参考主光线,光瞳采样设置20环12臂进行优化。注意公差分析前要取消所有变量!同时要注意套样板操作,使光学系统各项参数精度符合加工要求。
  2. 公差分析用到的的重要资料
  • 2-1 现代光学加工等级表

4. Zemax材料库格式解读

1、以H-K9L为例:

Zemax材料库参数如下

NM H-K9L 2 517642 1.516800(折射率Nd) 64.198732(阿贝数Vd) 0 1 1 GC ED 7.600000000E+000 9.500000000E+000 2.520000000E+000(p) -5.000000000E-004(dPgF) 0 0 // TCE CD 6.145552510E-001 1.459878840E-002 6.567750170E-001 2.877695880E-003 1.026993460E+000 1.076530510E+002 0.000000000E+000 0.000000000E+000 0.000000000E+000 0.000000000E+000 // K1、L1、K2、L2、K3、L3…… TD -1.040000000E-006 1.480000000E-008 -5.170000000E-011 3.850000000E-007 4.550000000E-010 2.110000000E-001 2.000000000E+001 // D0、D1、D2、E0、E1、Ltk、Temp MD 79.20 0.211 595 736.000 0.931 OD 1.00000 2.00000 -1.00000 -1.00000 -1.00000 -1.00000 LD 3.02000000E-001 2.32500000E+000 // 波长范围 IT 2.90000E-001 2.75000E-001 1.00000E+001 IT 3.00000E-001 5.57000E-001 1.00000E+001 IT 3.10000E-001 7.76000E-001 1.00000E+001 IT 3.20000E-001 8.94000E-001 1.00000E+001 IT 3.30000E-001 9.51000E-001 1.00000E+001 IT 3.40000E-001 9.74000E-001 1.00000E+001 IT 3.50000E-001 9.82000E-001 1.00000E+001 IT 3.60000E-001 9.92000E-001 1.00000E+001 IT 3.70000E-001 9.95000E-001 1.00000E+001 IT 3.80000E-001 9.95000E-001 1.00000E+001 IT 3.90000E-001 9.96000E-001 1.00000E+001 IT 4.00000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 4.20000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 4.40000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 4.60000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 4.80000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 5.00000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 5.50000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 6.00000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 6.50000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 7.00000E-001 9.97000E-001 1.00000E+001 IT 8.00000E-001 9.98000E-001 1.00000E+001 IT 8.50000E-001 9.98000E-001 1.00000E+001 IT 9.00000E-001 9.98000E-001 1.00000E+001 IT 9.50000E-001 9.98000E-001 1.00000E+001 IT 1.00000E+000 9.98000E-001 1.00000E+001 IT 1.06000E+000 9.98000E-001 1.00000E+001 IT 1.20000E+000 9.98000E-001 1.00000E+001 IT 1.40000E+000 9.75000E-001 1.00000E+001 IT 1.60000E+000 9.87000E-001 1.00000E+001 IT 1.80000E+000 9.57000E-001 1.00000E+001 IT 2.00000E+000 9.04000E-001 1.00000E+001 IT 2.20000E+000 7.78000E-001 1.00000E+001 IT 2.40000E+000 7.09000E-001 1.00000E+001 BD 0.6328 2.70

附上成都光明官网玻璃参数:

另:关于Synopsys的材料库及材料文件(.LIB)的解析,软件自带用户手册上有全面的解释。

光学基础知识

1. 入瞳与出瞳

参考【光学设计基础】光阑, 孔径光阑, 视场光阑, 出瞳, 入瞳

2. 基础概念(前后焦、主平面等)与冷光阑

参考【CODEV光学设计】快速入门5-非球面、扣洞、冷光阑

3. 红外光学系统的冷光阑效率

参考红外光学系统的冷光阑效率

  • 简单介绍一下三种情况:

1、光学系统的出瞳和冷光阑完全重合,此时冷光阑效率为100%,探测器完全接收不到镜筒内壁发出的热辐射(不考虑散射、多次反射等杂散光来源); 2、光学系统的出瞳和冷光阑不重合(出瞳直径大于冷光阑),一部分筒内壁发出的热辐射可以直接照射到探测器; 3、光学系统的出瞳和冷光阑不重合(出瞳直径小于冷光阑),此时冷光阑起到了渐晕光阑的作用,边缘视场的一部分成像光线被遮挡,在红外热成像中,渐晕往往是不可接受的。

4. 二次成像系统的优化过程

参考关于二次成像系统在优化过程中的一些问题。 参考一二次成像系统:中间像面、一二次成像位置(IMSF、M解、REAY)、入出瞳位置(ENPP、EXPP)、冷光阑

5. 优化时手动调整镜片曲率、厚度的影响(以单透镜为例)

1、前后两个面都是正曲面时,镜片越厚,聚焦能力越强;两面的曲率差距越大,聚焦能力越强;

2、前后两个面都是负曲面时,镜片越厚,聚焦能力越强;两面的曲率差距越大,聚焦能力越强;

3、前后两个面一正一负时,镜片越厚,聚焦能力越弱;曲率半径差距越大,聚焦能力越强;

4、前后两个面一负一正时,镜片越厚,聚焦能力越弱;曲率半径差距越大,聚焦能力越强;

5、两个面曲率半径同号时,如果后表面曲率半径-前表面曲率半径 > 0(即后表面向正向的弯曲程度小),那么聚焦点在主平面右边,否则聚焦点在主平面左边。

6、两个面曲率半径异号时,如果后表面曲率半径-前表面曲率半径 > 0(即后表面向正向的弯曲程度小),,那么聚焦点在主平面左边,否则聚焦点在主平面右边。

注:考虑一下上述规律是否与阿贝数有关,上述实验使用成都光明HWS9材料。

6. 解读光线光扇图

非常好的解读文章:谁能说下zemax的光扇图怎么看像差?

一点感悟: 1、轴上视场:像面上的理论聚焦点在主光轴上;轴外视场:像面上的理论聚焦点在主光轴外; 2、像散和场曲都可以当做是一种“离焦”,像散是子午方向和弧矢方向之间存在离焦,场曲是不同视场间存在的离焦;

7. 常见的红外光学材料及加工厂

1. 常见红外材料

参考:常见的红外光学材料

2. 红外玻璃厂及代表型号

红外材料AMTIR

8. 镜头设计中透镜材料的选择及搭配

1. 玻璃搭配

对于减小视场角、承担视场像差的负光焦度前组,其负透镜使用“好”玻璃,正透镜使用“坏”玻璃。 对于承担光焦度、校正孔径像差的正光焦度后组,其负透镜使用“坏”玻璃,正透镜使用“好”玻璃。

2. 好坏玻璃定义

使用场景基本上是反远距镜头。
“好”“坏”定义: “好”玻璃可定义为高折射率+更低色散玻璃,或低折射率+更低色散的玻璃。“坏”玻璃可定义为高折射率+更高色散玻璃,或低折射率+更高色散的玻璃。

3. 玻璃材料的折射率与色散

高折射率材质相比低折射率材质,在相同光焦度的前提下,可以拥有更平坦的表面,更小的光线角度,更小的像差。 低色散材质相比高色散材质,在相同光焦度的前提下,产生的色差更小。 但一般材质都是“好”“坏”特性的结合体,高折射率材质具有高色散,低折射材质具有低色散。

4. 好坏玻璃的判断

判断 “好”“坏”玻璃需要有一款“平均”玻璃,这里的“平均”是指平均折射率和平均色散。 如果某一块材质具有平均折射率,但具有更低的色散,那么就可以称之为“好”玻璃。

5. 常见的好坏玻璃

常见的“好”玻璃有: H-FK61、H-QK3L、H-ZLAF55D、H-ZLAF50E等。 常见的“坏”玻璃有: H-ZF1、H-ZF11、H-ZF7LA、H-ZF52等。

参考从透镜材料的选择及搭配看光学镜头架构设计

6. 材料选择

选择合适的红外材料适当匹配正负透镜光焦度, 以达到消色差和热差的目的。单晶锗的性能稳定, 在红外中波3~5μm波段有较好的透过率, 硅是一种化学惰性材料, 其硬度高, 导热性好, 在红外中波3~5μm波段有很好的透光性能。 (1) 光焦度匹配 在中红外波段, 为了合理分配光焦度, 负光焦度元件常采用锗, 正光焦度元件常采用硅, 相当于可见光系统中胶合透镜的火石玻璃和冕牌玻璃, 这样就可以利用这两种材料的性能匹配来满足系统所需的光焦度。 (2) 消色差 光学系统消色差的方法是通过组合阿贝数相差较大的材料, 系统中所选的硅和锗在中波时的阿贝数vi分别为237.8和107.2, 阿贝数相差较大, 通过材料匹配能够有效校正色差。锗的折射率较高, 硅的折射率略低于锗, 属于高折射率低色散材料, 这也对其他像差的校正也十分有利。 (3) 消热差 在温度变化较大的条件下, 锗的折射率随温度的变化系数dn/dt是普通玻璃的约100倍, 为保证成像质量需对系统进行无热化设计。在无热化设计消热差过程, 我们采用组合热差系数相差较大的材料的方法, 来消除系统热差。系统中采用的硅和锗的热差系数分别为7.03×10-5和12.5×10-5, 利用二者组合, 再结合镜筒材料选择的是热膨胀系数较小的钛合金TC4, 最终有效消除了热差对系统成像质量的影响。

Synopsys

1. Synopsys一些资料总结

Synopsys官网知识库 Synopsys指令总结 Synopsys 光学设计软件课程三十七:自动查找和更改镜头结构 近红外镜头初始结构设计 Synopsys每月一题——监控镜头设计(第一期) 超广角镜头初始结构设计–>广角镜头设计的另一种方法 Synopsys中如何使用玻璃替换方法来优化玻璃 Synopsys中,对元件材料优化方法GSEARCH

2. Synopsys指令与用法

1. 指令总结

LM DEFAULT 打开DEFAULT.MAC文件 LE 打开LENSEDIT.RLE文件 FETCH 文件名(无后缀)打开透镜文件 PAD 现实图像 1 RD 100 TH 5 GTB S GLM 1.6205 60.32 表面1,曲率半径100,厚度5,材料库肖特,玻璃模型(折射率、阿贝数) N-BK7 具体材料 MRG 自动玻璃搜索命令 YMP1 表面1顶点平面上的轴向边缘光线高度。 YP1 表面1顶点平面上的主光线高度。 APS SN 指定面为光阑,负号使实际光瞳生效 MPW(Menu, Pupil Wizard) 菜单 MOW(Menu, Object Wizard) 菜单 SPS 类似Zemax的镜头编辑器 MGI 打开“几何图像”菜单,显示各种相差 MGT 玻璃库 PXT 近轴光线追迹 MSS 模式切换 PLOT BACK FOR WAVL = .4 TO .8 在命令行CW输入作图 SN PIN NB 为表面SN拾取表面NB的折射率 SN UMC NB 在SN表面折射或反射后,求出球面曲率,要生成所需的F/number,请为NB输入(1/2FNUM)。 例如:4 UMC -.125 YMT 现在透镜的曲率求解为4,得到F /4.0,由于YMT求解,表面5处于近轴焦点。 EDGE 展示每片透镜的中心、边缘厚度及每个面的高度(通光孔径) CAP 查看通光孔径大小

{ LUL / LLL / LUA / LLA } TAR WT WINDOW 例子:LUL 90 .1 1 A TOTL !设置总长上限为90,权重0.1,窗口(公差,可接受误差)大小1 AEC [ TAR WT [ WINDOW ] ] 边缘自动控制小于TAR,目标默认为1 mm,默认权重和窗口均为1.0 ACC [ TAR WT [ WINDOW ] ] 中心厚度最大值TAR,默认厚度为1英寸,默认权重为1 ACM [ TAR WT [ WINDOW ] ] 中心厚度最小值TAR,默认权重为1 ACA [ ANGLE WT [ WINDOW ] ] 光线临界角不超过,窗口默认1° AGE: 用于监测玻璃镜片的边缘厚度(适用于厚度(TH)为变量的情况)。 AFE: 与 AGE 类似,同样用于监测边缘厚度,但监测孔径取决于以下情况:若已定义 EFILE(参数文件)中的 A 点和 E 点,则以这两点为孔径;若未定义,则以 CAO(主孔径)为孔径。 AAE: 用于监测空气间隔的边缘厚度(适用于厚度(TH)为变量的情况)。 ASC: 用于防止曲面斜率过大(适用于曲率(CV)为变量的情况)。 AAC: (孔径控制)用于监测通光孔径,防止其过大。该操作数适用于所有孔径。 AZA: 用于监测 ZFILE(变焦参数文件)所定义的变焦透镜中,每个变焦组两侧的气隙及边缘尺寸。 ADT: 用于监测透镜直径与厚度的比值。 AMS: 用于监测弯月形透镜曲率中心之间的间距。

光线网格像差定义(Raygrid Aberration Definitions)

2. 用法样例

M 0 10 A P YA 1 0 0 0 11 用YA控制真实边缘光线坐标在表面11为0 M 3 10 A PYA 11 用PYA(近轴边缘光线高度)来控制光阑(表面11)的大小为3 SYNOPSYS代码详解(不同优化程序对镜头的改善) RMS P 1 600 0 0 查看1视场的 RMS 光斑大小 FRMS M P 600 0 0 RMS随视场变化图

设计经验

1. Zemax套样板

  1. 最好一片一片匹配样板,比如一次换一片镜片,匹配好再优化,然后匹配其他镜片,再优化;
  2. 手动匹配效果更好,先匹配样板稀疏的曲率,优化后再匹配密集的;
  3. Zemax导入自己的样板库 zemax可以导入自己的样板,步骤如下: 1、打开zemax文档目录,找到testplate文件夹。 2、随便复制一个tpd文件,重命名为你想起名的样板文件。 3、删除样板文件的所有内容,往里面输入你的样板库。 4.、继续保存为tpd文件,样板匹配的时候调用即可。 格式如下: 1、!后面跟注释,可用于开头备注样板目的,样板制作人等信息。 2、第一列是序号 第二列是曲率半径 第三列是你样板的口径 第四列0 或者1 或者-1 代表了是一对样板或者凸样板或者凹样板。 3、支持从excel直接复制粘贴到tpd文件中,这样制作也比较快。 4、例如下面是我样板库里面的部分截图。

2. 初始结构与镜头优化方向

  1. 如何选择初始结构:怎么选择各种镜头的初始结构
  2. 考虑向何方向优化镜头:理论分析在镜头设计中的指导意义(实例)
  3. Zemax优化透镜,如何进一步减小RMS半径,并减小畸变和场曲:
    • 刚开始优化的时候不要用SPHA,COMA,LACL等初级像差优化操作数,一开始可以只控制畸变,畸变用DIMX来控制(一点一点降低,不要一下子给它勒到最小值),前期不要加那么多的操作数,还是以默认评价函数为主;
    • 优化过程中可能会使结构不合理,需要加一些限制结构的操作数,比如厚度控制,厚薄比控制、反曲等等,还有操作数的权重要小一点,比如0.1,可以通过将实际值乘以10,100,1000……来增加操作数的贡献值;
    • 当点列图降到差不多10的时候,再一点点继续降低畸变,色差(根据色差的定义用组合操作数来控制);
    • 换材料的时候锤不动了可以手动换,不要一次全换,先将一片的材料设置为变量,优化,看看折射率和阿贝数往大了走还是小了走,再根据光学玻璃Nd-Vd曲线,选择相应的材料,手动输入替换。
  4. 光焦度优化 光焦度的理解及在Zemax中计算光焦度:ZEMAX中镜片光焦度优化 使每个透镜光焦度分布均匀。可以通过限制光线通过每个面入射和出射角度来控制,即避免在某个面上,入射与出射角度之间的差值过大,也就是使光线比较平滑的通过每个面。 按照高斯光学:${u=h\phi}$,孔径角的转角一致,光焦度分布也基本一致。

3. 将高成本玻璃替换成低成本的

(1)首先考虑成本

  • 材料价格这个是相对的,如果口径小,重量轻,加工一片贵的材料和便宜的材料价格相差不大,此时加工费占大头;
  • 如果是打样,材料占的比重比较少,成本主要在治工具以及调机时间上。但如果是批量,材料成本也是重要一部分。

(2)替换原则

  • 在玻璃图附近找Nd,Vd相近的玻璃替换并优化(有时宁愿用贵材料也尽量不增加玻璃片数:玻璃多了带来的装配误差多,降低透过率,增加重量,成本…………除了极个别的像FK61,71这种没法替代外,很少有玻璃是不能换的);
  • 如果直接替换玻璃无法得到符合要求的系统,再考虑增加玻璃(贵的镜片无非是生产厂家单一,价格垄断;或者原材料贵,这类型要么属于Nd大,要么属于Vd大,从光焦度的分配来说,只要片数不做限制,总可以加镜片去分担该镜片所承担的功能)。

4. 优化瓶颈

如果刚开始是使用“点列图+RMS+质心”方式优化,尝试切换“波前+PTV+主光线”优化,如果发现依旧止步不前:使用“波前+PTV+主光线”优化,同时在评价函数编辑器导入RMS优化文件,长时间锤形优化(注意调整好主重要镜片厚度和空气间隔,防止它们出现极端情况。可以先用局部优化跑一下,看有没有极端情况的苗头)。 另:优化完成之后,若部分视场(如边缘视场)点列图、MTF等效果相对于其他视场较差,可在视场数据编辑器处加大对应视场权重,更新评价函数后重新优化。

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